一种旋转式烤架及真空烤炉的制作方法

本实用新型涉及一种清洁装置，尤其涉及一种旋转式烤架及真空烤炉，用于旋转清洁晶片载片。

背景技术：

半导体领域目前使用的高温真空烤炉是用来烤掉MOCVD机台磊晶生长后的石墨盘上的杂质，其烤炉腔体均为桶装水平放置，内部安装有石墨支撑住、石墨承载板、烤架等治具，以用来承载固定不同直径的石墨盘等相关备件。

目前，LED领域所使用的高温真空烤炉均是带有石墨承载板、烤架等治具来盛放石墨盘，但就是因为有承载板的存在，所以使烤炉内部的热量无法均匀扩散，进而使石墨盘高温烤时局部温度不能达到一致，烤盘会出现局部不干净的现象。因而，找到一种新型的烤架，取代目前使用的石墨承载板+烤架的配套装置，是迫在眉睫的事情。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型首先提出的一种旋转式烤架，用于旋转清洁晶片载盘，其至少包括：

一固定架，用于固定载盘，其包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的复数个第一横杆、分别固定连接于第一挡板和第二挡板外侧的第二横杆，所述载盘置于复数个第一横杆围成的空腔内且与第一挡板和第二挡板平行；

若干个支撑柱，用于支撑固定架，其一端活动连接于第二横杆上，另一端作为支撑点，使所述固定架呈悬空状；

一驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与任意一第二横杆连接，通过驱动第二横杆的转动进而带动固定架进行旋转。

优选的，所述驱动机构包括固定连接在第二横杆上的第一齿轮、一端设置有第二齿轮的转动轴和与转动轴另一端连接的驱动马达。

优选的，所述第一横杆上设置有复数个卡槽，所述载盘放置于所述卡槽内。

优选的，所述第一挡板和第二挡板上均设置有通孔，所述第一横杆的两端分别插入通孔内并通过螺栓固定在第一挡板和第二挡板上。

优选的，所述第一横杆相对于固定架中心的位置通过调整第一横杆在所述通孔中的位置来调节，调节第一横杆相对固定架中心的位置可以夹持不同尺寸的晶片载盘。

优选的，所述第一横杆的个数大于等于3，且均匀分布。

优选的，所述支撑柱的个数大于等于3。

本实用新型还提出一种真空烤炉，用于清洁晶片载盘，其包括真空加热腔室和围绕真空加热腔室的外壁，以及放置于真空加热腔室内的旋转式烤架，其特征在于：所述旋转式烤架至少包括：一固定架，用于固定载盘，其包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的复数个第一横杆、分别固定连接于第一挡板和第二挡板外侧的第二横杆，所述载盘置于复数个第一横杆围成的空腔内且与第一挡板和第二挡板平行；

若干个支撑柱，用于支撑固定架，其一端活动连接于第二横杆上，另一端作为支撑点，使所述固定架呈悬空状；

一驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与任意一第二横杆连接，通过驱动第二横杆的转动进而带动固定架进行旋转。

优选的，所述驱动机构包括安装于第二横杆上的第一齿轮、设置于真空加热腔室外部的转动马达、以及连接齿轮和转动马达的一端设置有第二齿轮的转动轴。

本实用新型至少具有以下有益效果：

1）通过改变支撑方式，取消了石墨承载板，减少了其遮挡热能，可以使烤盘热量扩散的更为均匀；2）通过调整第二横杆的固定位置或者更换第二横杆，从而烤不同尺寸、不同形状的晶片载盘；3）通过加装齿轮和转轴可以根据不同的烤盘工艺，设定不同的转速已达到烤更加干净的目的；4）旋转式的烤架烤盘，可使烤盘过程中出现的镓源滴，利用惯性甩出，从而达到烤盘更干净的效果。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。此外，附图数据是描述概要，不是按比例绘制。

图1 为本实用新型具体实施方式之旋转式烤架立体示意图。

图2 为本实用新型具体实施方式之固定架立体示意图。

图3为本实用新型具体实施方式之固定架的侧视图。

图4 为本实用新型具体实施方式之第一齿轮、第二齿轮立体示意图。

图5 为本实用新型具体实施方式之真空烤炉、烤架立体示意图。

附图标注：100：固定架；110：第一挡板；111：通孔；120：第一横杆；121：螺栓；122：卡槽；130：第二横杆；140：第二挡板；200：载盘；300：支撑柱；400：驱动机构；410：第一齿轮；420：转动轴；421：第二齿轮；430：马达；500：外壁；510：真空加热腔室。

具体实施方式

下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。

实施例1

参看附图1，一种旋转式烤架，用于旋转清洁晶片载盘200，其至少包括固定载盘用的固定架100、位于固定架100两端的支撑固定架100的复数个支撑柱300、以及使固定架100旋转的驱动机构400；支撑柱300将固定撑起呈悬空状态，驱动机构400驱动固定架100进行旋转。

参加附图2，固定架100包括相对设置的第一挡板110和第二挡板140、可拆卸固定连接第一挡板110和第二挡板140的复数个第一横杆120、分别固定连接于第一挡板110和第二挡板140外侧的第二横杆130，载盘200放置于复数个第一横杆120围成的空腔内，且与第一挡板110和第二挡板140平行。为了使第一横杆120能更好的固定载盘200，本实施例优选的在第一横杆120的内侧设置复数个卡槽122，每一第一横杆120上卡槽122的个数及大小均相同，载盘200位于卡槽122内，一般为了固定载盘200，载盘200固定于第一横杆120围成的空腔内固定架100上第一横杆120的个数不少于3个，以便围成一个空腔放置载盘200。

具体他，第一挡板110和第二挡板140上均设置有通孔111，第一横杆120的两端分别插入通孔111内并通过螺栓121固定在第一挡板110和第二挡板140上，第一横杆120相对于固定架100中心的位置通过调整第一横杆120在通孔111中的位置来调节，通过调节烤架相对固定架100中心的位置以便使第一横杆120围成不同面积的空隙，用于放置不同尺寸的晶片载盘200。

第一挡板110和第二挡板140外侧的中心均设置有一第二横杆130，第二横杆130可以与第一挡板110和第二挡板140一体成型，也可以通过螺栓121连接于第一挡板110和第二挡板140上。第二横杆130的一端固定于第一挡板110上，另一端指向固定架100的外侧。继续参看附图1，第二横杆130置于支撑柱300的一端上，每一第二横杆130上至少设置有2个支撑柱300，支撑柱300与第二横杆130的连接处为活动连接，连接处设置于滑动件（图中未示出），保证支撑柱300固定不动时，第二横杆130能在驱动机构400的驱动下进行旋转。驱动机构400通过驱动第二横杆130的旋转使固定架100进行旋转。

驱动机构400包括紧固于第二横杆130上的第一齿轮410、一端设置有第二齿轮421的转动轴420和与转动轴420另一端连接的驱动马达430，驱动马达430可以直接连接于转动轴420的一端，也可以通过传送带与转动轴420连接。驱动马达430驱动转动轴420进行旋转，同时紧固于转动轴420上的第二齿轮421同样进行旋转，并带动第一齿轮410进行旋转，进而驱动固定架100进行旋转。参看附图4，第一齿轮410与第二齿轮421为配套组合，在工作时两者紧密贴合。

参看附图4，本实用新型还提出一种真空烤炉，用于清洁晶片载盘200，其包括真空加热腔室510和围绕真空加热腔室510的外壁500，以及放置于真空加热腔室510内的旋转式烤架，旋转式烤架至少包括：一固定架100，用于固定载盘200，其包括相对设置的第一挡板110和第二挡板140、固定连接第一挡板110和第二挡板140的复数个第一横杆120、分别固定连接于第一挡板110和第二挡板140外侧的第二横杆130，载盘200置于复数个第一横杆120围成的空腔内且与第一挡板110和第二挡板140平行；若干个支撑柱300，用于支撑固定架100，其一端活动连接于第二横杆130上，另一端作为支撑点，使固定架100在真空腔内呈悬空状；一驱动机构400，用于驱动固定架100进行旋转，其设置于任意一第二横杆130上，通过驱动第二横杆130的转动进而带动固定架进行旋转。驱动机构400包括安装于第二横杆130上的齿轮410、设置于真空加热腔室510外部的转动马达430、以及连接第一齿轮410和转动马达430的一端设置有第二齿轮的转动轴420。

同时本实用新型提供的烤架可以做到，在烤较小直径的晶片载盘时，可以在腔体内部直接取放。当晶片载盘直径较大时，在烤炉腔体之外的空间进行取放晶片载盘，可利用专用的叉车将安装晶片载盘后的烤架搬运到腔体内，方便批量烤盘作业。

本实用新型的真空烤炉采用可旋转的固定架承载晶片载盘进行烘烤作用，取消了现有技术中的石墨承载板，减少了其对载盘烘烤时的热能遮挡，使烤盘时热量扩散的更为均匀，同时调整第二横杆的位置或者更换第二横杆，从而可以烘烤不同尺寸、不同形状的载盘。

根据不同的烤盘工艺，通过马达设定不同的转速可以使载盘烘烤的更加干净，并且在旋转过程中，可以将载盘表面烘烤滴落的脏污利用惯性甩出，增加烘烤的效果。

应当理解的是，上述具体实施方案为本实用新型的优选实施例，本实用新型的范围不限于该实施例，在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，本领域技术人员对这些实施方式所做的任何变更，皆属本实用新型的保护范围之内。