方案概述
真空镀膜机主要用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。它是采用电子束蒸发原理，通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。其控制核心为电子枪扫描轨迹路线算法、电子枪加热功率控制、镀膜沉积速率平稳性控制、多层膜系自动切换控制、以及相关安全容错等控制。
方案构成
· 通过海得e-Control PLC 构建了自动化控制系统地核心硬件平台，实现对整个镀膜系统各控制部件、传感器等数据处理和控制。
· 通过海得NetSCADA组态软件构建了HMI人机交互界面，实现该系统与操作员、工艺师、运维等不同身份人员的友好的交互管理。实现对系统各项指标做到可监视、可控制、可追溯。

系统主要特点
· 提供多达99层一次成膜支援；
· 自动倒幕翻转，可实现双面镀膜；
· 支持Excle导入靶材、设备参数、工艺参数等；
· 支持电子枪像素点数量自定义控制，实现靶材的无缝隙加热控制；
· 针对不同加热段，采用不同蒸镀模式，保证熔料均温的同时，保证熔料效率；
· 一键式启动，从启动到生产结束只需轻点一下鼠标，各种生产流程自动完成；
· 批号式数据管理方案，实时自动保存生产信息，对生产数据有据可查；
· 网络化方案，提供远程组网端口，轻松实现远程多系统集中控制和管理；